真空コーティング技術
PVD（Physical Vapor Deposition ）物理気相成長法とは物質の表面に金属の薄膜を生成する手法のうち、物理的効果により被膜を生成する手法。そして、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングの3つの種類があります。
一. PVD 設備構成
1.真空チャンバー
2.バルブ
3.ポンプ
4.真空計
5.パワー・サプライ・ユニット
6. ターゲット材料（蒸着とスパッタリング）
二. PVD加工方式
1.真空蒸着
真空状態の容器に蒸着材料を入れ、熱を利用し気化、蒸発させることによって基盤の表面に付着させる技術。
2.スパッタリング
スパッタリング(sputtering)真空状態下で不活性ガスを注入し、高圧電流をかけ加工材料の表面に衝突させることによって、原子が弾き飛ばされ基盤に製膜させる手法。
三. PVDコーティング特徴
1.高硬度、高耐摩耗、低摩擦係数
2.高い耐腐食性と高い化学的安定性の実現
3.上記の1.2による使用年数の延長
4.外観が綺麗で、丈夫である
四. PVDコーティングメリット
1.厚さは約0.8μmから2μm
2.ブランクのサイズに影響を受けない
3.PVD加工後は更なる加工は不要
4.環境にやさしい
5.様々な色を選択可能
6.接着力、硬度、耐摩耗性が良いと品質が高い
7.銅と金を材料として蒸着処理可能
五. PVDと電解メッキの比較
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PVD | 電解メッキ |
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接着性 |
★★★★ |
★★★ |
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硬度 |
★★★★ |
★★ |
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表面潤滑性 |
★★★ |
★★ |
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耐磨耗性 |
★★★★ |
★★ |
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耐食性 |
★★★ |
★★ |
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エコ |
★★★★★ |
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